私たちの“気体の粉体除去”とは主に半導体・液晶製造装置（ＣＶＤ・エッチング等）から排気されるガス反応生成物（微粉体）を除去する装置です。 特にＣＶＤ装置から排出される１μｍ以下の反応生成物をうず流旋回吸着と高機能マグネットエレメントにより完全にシャットアウトします。本装置はエレメントの圧力損失がほとんどなく、真空ポンプの前段と後段の両方に使え、既存のフィルターでは除去できない微粉体をたやすく処理する画期的な粉体トラップです。大幅なメンテナンスの工数削減と生産性の向上が約束されます。